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访谈｜ASML全球高级副总裁沈波：开放合作半导体行业才能发展******
(第五届进博会)访谈｜ASML全球高级副总裁沈波：开放合作半导体行业才能发展
中新社上海11月6日电 题：访谈｜ASML全球高级副总裁沈波：开放合作半导体行业才能发展
中新社记者 李佳佳
元宇宙体验、光刻机“开箱”视频和H5虚拟课堂，备受外界关注的全球半导体行业供应商ASML在第五届中国国际进口博览会上，首次通过“元宇宙”平台，带来沉浸式的光刻体验，彰显前沿科技。
自1988年交付首台步进式光刻机以来，ASML进入中国市场已有三十余年，见证、亲历和支持了中国半导体产业的发展。
“今年是ASML第四次参展进博会，我们希望借助进博会的平台不断地展现开放共赢、合作发展的理念。”ASML全球高级副总裁、中国区总裁沈波表示：“ASML一直秉持开放与专注，以‘开放式创新’和对光刻技术的专注，持续支持半导体行业的发展。在进博会，我们可以与全行业甚至跨行业的企业和合作伙伴加深交流，共商合作前景。”
首次在进博会亮相的“ASML元宇宙”之旅给此间观展者带去了身临其境的独特体验。在ASML元宇宙空间里，观展者可以“亲身”进入无尘室，近距离接触神秘的光刻机，更可以结合影视级效果的3D裸眼视频，了解光刻机的内部基本原理——光源经过照明模组投向掩模版，再穿过掩模版上的电路图案，通过投影物镜将影像聚焦到晶圆上。“元宇宙”中还有生动的全方位光刻解决方案动画和丰富多样的科普视频，令观展者沉浸式了解更多有关ASML的故事。
“每年我们都会思考以什么样的形式参加进博会”，沈波说，去年，进博会的集成电路专区设立，凸显了外界对产业的关注和重视。希望未来在设立专区的基础上，能够增加宣传和引导，比如举办一些专题或者小论坛，以加深外界对行业的了解。
其实，除了光刻机，ASML在芯片制造的成像环节也会提供全方位的光刻解决方案，从光刻机设备本身到计算光刻软件，再到芯片生产过程的量测、缺陷的检查等，ASML均有涉猎。“我们更想跟大家讲讲怎么帮助客户在芯片生产的过程中，在我们的环节上做出足够大的工艺窗口，让芯片生产的质量、精度能够控制得更好，或者让客户的技术进步更顺畅地向前。这是我们今年进博会主要的出发点。”
当前，中国已是全世界最大的成熟制程市场，这俨然成为行业的共识。“中国在整个半导体产业链中扮演非常重要的角色，这是所谓‘不确定性中的确定性’。在这种确定的情况下，中国该怎么发展成熟制程，怎么把成熟制程做好，怎么在全球的半导体产业链里把自己重要的角色扮演好，从这个角度看，中国市场的潜力是很大的，中国有全世界最大的终端市场，最活跃的应用市场，终端市场、应用市场反过来可以推动上游设计、制造方面的发展创新。”
说起行业未来的发展，沈波坦言，半导体行业自身有一定的周期，有起有伏不是新鲜事。但是从半导体行业过去多年的发展和对未来的预期来看，整体向上的趋势是在的，“只要大趋势在，就会要求有更多的计算、更多的存储、更多新的应用支持，就会带动半导体行业的需求量向上”。(完)
“遇见和田”摄影全球征集大赛启动******
中新网4月13日电 位于昆仑山与塔克拉玛干大沙漠之间的和田，曾是古丝绸之路南道重镇，以丝绸、地毯、玉石等众多特产而闻名。你眼中的和田什么样？你与和田又有哪些故事？
4月13日，由中国新闻网与新疆和田地区文旅局共同主办的“遇见和田”摄影全球征集大赛正式启动。
征集将持续至2022年7月底，结束后将评选优质作品予以奖励，并通过中国新闻网及其新媒体矩阵进行网上展播。
征集要求：
积极向上，创作手法新颖，以“遇见和田”为主题，用镜头展现和田自然风光、人文历史等，力求展现和记录和田的发展变化以及各领域民众建设和田的摄影作品。
1、作品规格：
1)形式体裁不限，作品内容积极向上，需符合征集内容。投稿作品单幅、组照均可，可多次投稿；
2) 拍摄内容应真实客观，不允许对原始图像做影响真实性的调整和润饰。不接受创意类作品。(照片仅可作亮度、对比度、色饱和度适度调整，不得用电脑或传统暗房技术作合成、添加、删除、更换背景等技术处理)；
3) 图片说明须包括拍摄时间、地点，对画面的描述，关键人物的姓名，重要的背景信息等。
4) 单幅、组照不限(每幅/组作品为1件)，彩色、黑白作品均可。组照作品每件限5-10幅单张作品组成。每位作者投稿件数不限。
5) 投稿统一接收jpg格式文件，单幅图片不能小于1M，不大于10M，长边不低于2000像素。
6) 投稿方式为电子文件作品；
7) 本次征集不收取任何费用。
2、投稿者需遵守以下原则和规定：
1) 投稿作品须为原创作品，投稿时必须填写完整作品标题、拍摄时间、地点、人物、事件以及简要说明，否则无法上传作品，凡因提交的个人信息不全面而影响联络者，视为自动放弃参展资格。
2) 投稿者应保证其为所投送作品的作者，并对该作品的整体及组成部分均拥有独立、完整、明确、无争议的著作权；投稿者还应保证其所投送的作品不侵犯第三人的包括著作权、肖像权、名誉权、隐私权等在内的合法权益。
3) 征稿期间，投稿作品若被用于推广、展示，不代表最终入展。
4) 作品入展后，主办单位将调取作品原始文件，用于展览和画册制作。作者应将大数据文件在规定的时间内向主办单位提交，不能按要求提供者视为自动放弃入展资格。
5) 主办者有权在出版画册、举办展览、相关宣传中使用入选作品，不另行支付稿酬。
6) 本次征集活动解释权属于主办单位。凡投稿者，即视为已同意本征稿启事所有规定。
投稿方式：
(1)系统投稿
投稿地址：https://actshow.chinanews.com/htpic22/user/login
(2)其它方式投稿：
1)私信投稿：可关注中国新闻社、中国新闻网微博，通过私信投稿
【注：此种投稿方式需下载《报名回执表》，下载地址：http://www.chinanews.com.cn/fileftp/2022/03/2022-03-06/U435P4T47D49877F24532DT20220307151821.docx
将摄影作品以单独文件制作，并以“所在地区+报送单位+负责人姓名+作品标题”命名(个人报名不写报送单位)；
《报名回执表》填写完需重命名，文件名称与摄影作品文件名称一致，统一发送。】
主办单位：
中国新闻网
新疆和田地区文旅局
新疆和田地委网信办
特别项目支持：
安徽驻新疆援建指挥部
联系方式：
技术咨询：13522053772
内容咨询：(010)6899 8392
（文图：赵筱尘 巫邓炎） [责编：天天中] 阅读剩余全文（）  视觉焦点
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